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hth平台注册:国产半导体设备的龙头:已开发出了5nm以下刻蚀设备获批量的订

2022-09-22 09:57:57 来源:华体会外围app网站 作者:华体会LOL平台app 浏览量:6

  要知道,制作一块晶片,涉及到数十种不同的仪器,数百种不同的加工方法,可以说是世界上最精密、最先进的一种技术。

  其中,光刻机和刻蚀机占据了设备的24%和20%的成本,合计高达44%,几乎占据了整个设备的一半。

  ASML是目前世界上最先进的光刻机,也只有ASML才能生产出7nm以下的EUV光刻机。

  中微半导体早在数年前,就已经生产出了5nm的光刻机,被TSMC收购,用来生产5nm的芯片,苹果公司的A14、A15、麒麟9000,都是用中微的。

  现在芯片厂的技术,正在飞速发展,4nm,3nm,中微半导体,也在紧锣密鼓地生产着新的芯片。

  中微在前段时间的年报中透露,公司正在研发新一代刻蚀器件,能够应用于5nm及以下的逻辑制程,以及1XnmDRAM芯片、128层以上3DNAND芯片等。

  公司研发的12英寸刻蚀机,已经应用到了65-5nm等先进的芯片生产线上,并根据客户的要求,研发出了5nm以下的刻蚀设备,完成了几个重要的工序。

  由此可见,中微半导体在5nm以内的刻蚀机,都是由客户大量购买的。此外,中微也在研发新一代刻蚀设备,可应用于5nm以下的晶片。

  不知各位有何感想?要是国内的半导体设备制造商,都能跟中微一样,把精度提升到5nm,5nm,那么美国就不是我们的对手了,其他的设备制造商,都要努力,跟中微半导体学一学。

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